主要对厂房装饰装修改造，其中室内改造面积5759.69平方米，室外工程（沉降池、工艺场坪等）约200平方米。
| 工程建设项目招标计划表 | |||||
| 项目概况 | 项目名称 | 某光学元件薄膜制备试制线建设项目 | |||
| 项目法人或招标人名称 | 航天科工微电子系统研究院有限公司 | ||||
| 项目批准文号 | 院计〔2025 〕233号 | ||||
| 建设内容 | 对配套基础环境进行改造，改造面积5759.69平方米。新增光学元件薄膜制备和性能测试等工艺设备14台（套）。 | ||||
| 建设地点 | 湖北省武汉市东湖新技术开发区科技三路99号 | ||||
| 投资估算 | 8593万元 | ||||
| 资金来源 | 项目建设单位筹措解决 | ||||
| 投标计划 | 标段名称 | 招标范围（内容） | 合同估算价（万元） | 预估工期（日历天）（服务期、供货期） | 拟招标时间 |
| 某光学元件薄膜制备试制线建设项目施工 | 主要对厂房装饰装修改造，其中室内改造面积5759.69平方米，室外工程（沉降池、工艺场坪等）约200平方米。 | 2431.65 | 90日历天 | 2025年6月25日 | |
| 备注 | 本计划表所列招标项目信息均为暂定，最终以实际招标时间的信息为准。 | ||||
